Ближнепольный оптический сканирующий микроскопFTIR-neaSNOM (США, 2020 г)

Возможности прибора:

Микроскоп FTIR-neaSNOM позволяет одновременно исследовать наноструктуру и
спектральные свойства широкого круга объектов. Он позволяет объединить
преимущества нескольких методов: оптической спектроскопии в видимом и ИК
диапазонах длин волн от 400 нм до 15,4 мкм, терагерцовой спектроскопии (волны
0.1-1.0 мм) и атомно-силовой микроскопии (АСМ) с латеральным разрешением
сканирования до 1 нм и вертикальным разрешением 0.2 нм. Возможности прибора
позволяют получать спектральную информацию даже с единичной молекулы!
Данный прибор является, по сути, единственным эффективным методом
исследования структуры и физико-химических свойств поверхности образца с
одновременным получением спектральной информации о его составе.
Данный микроскоп позволит исследовать любые объекты, с которых можно снять
информативный ИК спектр (фактически весь набор органических и
неорганических соединений), получая информацию о их составе и структуре на
наноуровне.

Технические характеристики и назначение:

Доступный
диапазон длин
волн:
0.5 – 20 мкм с возможностью расширения видимого
диапазона до 0.4 мкм, а также работы в терагерцовом
диапазоне (0.1-3.0 THz)
Диапазон
регистрации
спектров ИК
500-4000 см-1
Разрешение
сканирования:
Латеральное – предельное 0.4 нм (реальное зависит от
зонда, в рутинных измерениях 10-15 нм)
Вертикальное – 0.2 нм
Режимы
сканирования:
Контактные, полуконтактные.
Круг исследуемых
объектов:
Полупроводники, оксиды металлов, полимеры,
практически любые органические и неорганические тонкие
пленки, пластины, кристаллы, биомолекулы.
Получаемые на
микроскопе данные
Топография поверхности
Фазовый контраст
Магнитные свойства и доменная структура материалов с
нанометровым разрешением;
Локальная твердость образцов с нанометровым
разрешением;
Измерение вязкости и картирование по поверхности с
нанометровым разрешением;
Локальное распределение потенциала (работа выхода) и
локальная электропроводность (conductive AFM);
Реальное распределение носителей зарядов в образцах
полупроводниковых материалов;
ИК-спектры с любой точки поверхности + картирование
поверхности по любым выбранным полосам в ИК-спектре с
латеральным разрешение не хуже 15 нм;

Возможности прибора:

Микроскоп FTIR-neaSNOM позволяет одновременно исследовать наноструктуру и
спектральные свойства широкого круга объектов. Он позволяет объединить
преимущества нескольких методов: оптической спектроскопии в видимом и ИК
диапазонах длин волн от 400 нм до 15,4 мкм, терагерцовой спектроскопии (волны
0.1-1.0 мм) и атомно-силовой микроскопии (АСМ) с латеральным разрешением
сканирования до 1 нм и вертикальным разрешением 0.2 нм. Возможности прибора
позволяют получать спектральную информацию даже с единичной молекулы!
Данный прибор является, по сути, единственным эффективным методом
исследования структуры и физико-химических свойств поверхности образца с
одновременным получением спектральной информации о его составе.
Данный микроскоп позволит исследовать любые объекты, с которых можно снять
информативный ИК спектр (фактически весь набор органических и
неорганических соединений), получая информацию о их составе и структуре на
наноуровне.

Технические характеристики и назначение:

Доступный
диапазон длин
волн:
0.5 – 20 мкм с возможностью расширения видимого
диапазона до 0.4 мкм, а также работы в терагерцовом
диапазоне (0.1-3.0 THz)
Диапазон
регистрации
спектров ИК
500-4000 см-1
Разрешение
сканирования:
Латеральное – предельное 0.4 нм (реальное зависит от
зонда, в рутинных измерениях 10-15 нм)
Вертикальное – 0.2 нм
Режимы
сканирования:
Контактные, полуконтактные.
Круг исследуемых
объектов:
Полупроводники, оксиды металлов, полимеры,
практически любые органические и неорганические тонкие
пленки, пластины, кристаллы, биомолекулы.
Получаемые на
микроскопе данные
Топография поверхности
Фазовый контраст
Магнитные свойства и доменная структура материалов с
нанометровым разрешением;
Локальная твердость образцов с нанометровым
разрешением;
Измерение вязкости и картирование по поверхности с
нанометровым разрешением;
Локальное распределение потенциала (работа выхода) и
локальная электропроводность (conductive AFM);
Реальное распределение носителей зарядов в образцах
полупроводниковых материалов;
ИК-спектры с любой точки поверхности + картирование
поверхности по любым выбранным полосам в ИК-спектре с
латеральным разрешение не хуже 15 нм;