Конфокальный сканирующий лазерный микроскоп Optelics Hybrid, (Lasertec Corporation, Япония, 2021 г.)

Многофункциональный микроскоп, оснащенный двумя комплектами оптики(лазерное излучение с длиной волны 405 нм и источник белого цвета), позволяет решать следующие задачи:

  • получение конфокальных изображений с широким полем обзора и высоким разрешением с возможностью выбора оптимального источника излучения с 6 различными длинами волн;
  • наблюдение в режиме реального времени жидких и иных образцов;
  • измерение высот на наноразмерном уровне в поле обзора, измеряемом в миллиметрах с использованием интерференционных методов;
  • измерение толщин (более 1 мкм) прозрачных пленок с использованием принципов спектроскопической рефлектрометрии;
  • определение параметров шероховатости в 2-х и 3–х измерениях согласно стандартам ISO и JIS.

Основные технические данные

Источник видимого светаКсеноновая лампа
Источник лазерного излученияПолупроводниковый лазер 405 нм
Измерения в плоскости XYТочность: ±[0.02*(100/Увеличение
объектива)+L/1000], мкм
Воспроизводимость:10 нм
Измерения по оси ZТочность:±(0.11+L/100), мкм
Воспроизводимость: 10 нм
Диапазон измерения: 7 мм

Многофункциональный микроскоп, оснащенный двумя комплектами оптики(лазерное излучение с длиной волны 405 нм и источник белого цвета), позволяет решать следующие задачи:

  • получение конфокальных изображений с широким полем обзора и высоким разрешением с возможностью выбора оптимального источника излучения с 6 различными длинами волн;
  • наблюдение в режиме реального времени жидких и иных образцов;
  • измерение высот на наноразмерном уровне в поле обзора, измеряемом в миллиметрах с использованием интерференционных методов;
  • измерение толщин (более 1 мкм) прозрачных пленок с использованием принципов спектроскопической рефлектрометрии;
  • определение параметров шероховатости в 2-х и 3–х измерениях согласно стандартам ISO и JIS.

Основные технические данные

Источник видимого светаКсеноновая лампа
Источник лазерного излученияПолупроводниковый лазер 405 нм
Измерения в плоскости XYТочность: ±[0.02*(100/Увеличение
объектива)+L/1000], мкм
Воспроизводимость:10 нм
Измерения по оси ZТочность:±(0.11+L/100), мкм
Воспроизводимость: 10 нм
Диапазон измерения: 7 мм